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科研实力

RESEARCH STRENGTH

五合一团簇式钙钛矿叠层真空镀膜装备

五合一团簇式钙钛矿叠层真空镀膜装备整合了RPD、多源蒸镀、RF溅射、脉冲直流溅射和直流溅射等多种技术，能够在真空环境中连续沉积各种薄膜，包括TCO（ITO、IWO、ICO、IZO）、Cu、SnO2和NiO等，同时保持界面间的优良特性，为材料科学、电子工程和光电子学等领域的研究提供了一个强大的装备支撑。
双面卷绕铜箔溅射镀膜设备

此款镀铜真空设备采用自主研发的卷绕控制系统，展平效果更佳，已稳定运行2万米，且未有断膜和褶皱的情形。同时，公司采用模块化的设计组合，创新性隔离闸阀设计，实现不破真空快速换卷，提高生产效率，实现复合铜箔生产的降本增效。
RPD5500A

公司自主研发RPD5500A在原有技术基础上采用半导体平板显示行业加热、冷井等多种前沿核心技术，开发了多种复合工艺组合设计，尤其是通过巧妙的结构设计扩大入光面的受光面积而获得基于166尺寸电池片的高效增益。
制绒Plus系列设备

制绒Plus系列设备在保持现有高产能的基础上，导入最新技术，同时升级设备结构及生产工艺，进一步改善电池表面微观结构，提升硅片表面洁净度，降低表面污染，从而提升电池转化效率，这是公司在光伏湿法设备领域重要技术突破的又一里程碑。
HJT板式PECVD设备

公司HJT板式PECVD采用链式I-IN-P结构组合并搭配自动化整体解决方案，同时采用大面积载板设计，可实现单面或双面微晶工艺，助力HJT电池25%+量产平均转化效率目标的实现，进一步提升公司在HJT电池设备领域的竞争力。